Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma ICP-OES/ Perkin Elmer

Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma ICP-OES/ Perkin Elmer

Thách thức của các phòng thí nghiệm hiện đại trong phân tích đa nguyên tố:

• Nhanh chóng: Hoàn thành phân tích trong thời gian ngắn.
• Chính xác: Đảm bảo độ chính xác cao của kết quả mẫu.
• Nhạy: Phát hiện các nguyên tố ở mức độ thấp.
• Hiệu quả: Giảm thiểu chi phí vận hành và bảo trì.

Giải pháp của PerkinElmer:

Dòng sản phẩm ICP-OES Avio® Max của PerkinElmer đáp ứng mọi nhu cầu của bạn:

• Hiệu suất cao: Xử lý nhanh chóng, cho phép phân tích nhiều mẫu trong thời gian ngắn.
• Độ chính xác cao: Cung cấp kết quả đáng tin cậy với độ chính xác cao.
• Giới hạn phát hiện thấp: Phát hiện các nguyên tố ở mức độ thấp nhất.
• Tiết kiệm chi phí: Giảm thiểu chi phí vận hành và bảo trì.

Dòng sản phẩm Avio® Max bao gồm:

Avio 220 Max ICP-OES: Giải pháp phân tích đa nguyên tố đột phá

Thiết bị đo đồng thời các nguyên , Avio 220 Max mang đến hiệu suất vượt trội cho các phân tích đa nguyên tố đòi hỏi khắt khe. Hệ thống vận hành đơn giản, chỉ cần “plug and play”, giúp bạn tiết kiệm thời gian và dễ dàng bắt đầu phân tích chỉ trong 10 phút từ khi khởi động. Avio 220 Max là lựa chọn lý tưởng cho các phòng thí nghiệm có khối lượng công việc trung bình đến thấp.

Avio 550 Max ICP-OES: Nâng tầm hiệu suất phân tích

Avio 550 Max là thiết bị ICP-OES đo đồng thời hoàn toàn, độ ổn định và khả năng chịu hàm lượng TDS từ mẫu cao. Hệ thống này lý tưởng cho các phòng thí nghiệm kiểm tra công suất cao và các phòng thí nghiệm kiểm soát chất lượng sản xuất.

Avio 560 Max ICP-OES: Tốc độ phân tích tối ưu

Avio 560 Max là hệ thống ICP-OES đồng thời đa nguyên  nhanh nhất trong dòng sản phẩm Avio, được xây dựng dựa trên khả năng của Avio 550 Max với mô-đun “HTS high-throughput sample-introduction”. Hệ thống này giúp rút ngắn thời gian chạy từ 1,5 phút xuống còn 30 giây, đáp ứng nhu cầu phân tích nhanh chóng và chính xác cho các phòng thí nghiệm đòi hỏi khắt khe nhất.

Thông Số Kỹ Thuật Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma ICP OES 220/550 max

Máy quang phổ

– Máy đa sắc: Máy đa sắc Optima trên cơ sở echelle năng lượng cao sử dụng 2 detector SCD, phủ toàn dải phổ từ 163 ~ 782 nm. Độ phân giải của hệ thống là 0,006 nm ở 200 nm. Cách tử echelle có mật độ 79 vạch/mm với góc vát 63,40. Bộ chia cho vùng UV là cách tử 374 vạch/mm, trong khi một lăng kính thạch anh 600 được sử dụng như bộ chia cho vùng ánh sáng nhìn thấy.

– Hệ thống quang bền nhiệt: Toàn bộ hệ quang được bao bọc trong một vỏ quang bền nhiệt và được làm sạch

– Trường nhìn plasma: trường nhìn kép được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính, có thể lựa chọn chế độ xuyên tâm, dọc trục hoặc hỗn hợp cho bất kỳ bước sóng nào trong cùng một phương pháp.

– Cửa chập và hệ thống tái hiệu chỉnh Hg: Cửa chập vận hành bằng khí nén và được điều khiển bằng máy tính tự động mở và đóng mỗi khi phân tích cho từng mẫu một, bảo vệ hệ gương khỏi sự chiếu dài của plasma, giúp tăng tuổi thọ của gương. Một đèn thủy ngân được gắn kèm với cơ cấu cửa chập và có thể được nhìn tại một tần số do người sử dụng lựa chọn để tự động cập nhật hiệu chỉnh bước sóng của hệ thống tại đường phát xạ 253 nm.

– Detector: Loại detector mảng SCD chứa 235 mảng bao phủ khoảng 6000 bước sóng trên một tấm nền silic có kích thước 13×19 nm.

– Nguồn điện: Một pha, 200-254 VAC, dòng 20A, 50/60 Hz

– Kích thước: Dài 150 cm, cao 76 cm, rộng 80 cm, nặng 181.5 kg

– Môi trường: Thiết bị được vận hành trong phòng thí nghiệm có nhiệt độ trong khoảng 15 ~ 350C. Để tối ưu hóa hiệu năng của thiết bị, nhiệt độ phòng nên được kiểm soát ở khoảng 20±20C.

Hệ thống ICP

– Máy phát cao tần: Được trang bị máy phát cao tần trạng thái rắn thế hệ thứ 4, với tần số 40MHz, có thể điều chỉnh công suất từ 750 – 1500 W, với bước tăng 1W. Hiệu suất năng lượng lên tới hơn 81%.

– Việc đánh lửa cho plasma được điều khiển hoàn toàn bằng phần mềm máy tính. Plasma có thể tự động đánh lửa vào một thời điểm mà người sử dụng đã định trước và tự động tắt sau khi phân tích xong.

– Để an toàn cho người sử dụng và bảo vệ hệ thống, hệ thống sẽ liên tục kiểm soát dòng nước, áp suất khí cắt, áp suất khí argon, cửa bảo vệ và hiển thị trạng thái khóa bằng biểu tượng trên màn hình máy tính. Nếu một trong các khóa này bị ngắt, plasma sẽ ngay lập tức tắt.

– Hệ thống làm mát tuần hoàn được yêu cầu, với tốc độ dòng chảy khoảng 4L/phút ở áp suất 310 ~ 550 kPa và nhiệt độ 15 ~ 250C.

Điều khiển dòng khí

– Khí argon: các van solenoid điều khiển bằng máy tính được sử dụng để điều chỉnh tự động dòng khí sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 20 L/phút với bước tăng 1 L/phút cho khí argon plasma, trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,1 L/phút cho khí argon phụ trợ. Một bộ điều khiển dòng khối được cung cấp để điều chỉnh dòng khí argon nebulizer sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,01 L/phút

– Khí cắt: Khí cắt không khí nén (18 ~ 25 L/phút) được sử dụng để loại bỏ đuôi plasma, giúp giảm nhiễu và tăng dải động học. Cắt đuôi plasma bằng khí nên không cần bảo dưỡng và giúp giảm chi phí.

Hệ thống dẫn mẫu

– Tháp plasma: sử dụng một ống thạch anh, bên trong có một vòi phun (injector) nhôm, chống chịu được sự ăn mòn và axit, kể cả axit HF và nước cường toan. Ngoài ra còn một số loại injector khác để khách hàng có thể lựa chọn. Buồn phun sương được gắn tích hợp với tháp plasma. Hệ thống dẫn mẫu có thể điều chỉnh và tháo lắp dễ dàng mà không cần dụng cụ.

– Buồng phun sương: loại Scott bằng nhựa Ryton chống HF hoặc loại xoáy dòng Cyclonic.

– Đầu phun sương: loại chéo dòng hoặc loại đồng tâm bằng thủy tinh. Loại chéo dòng với thiết kế GemTips có khả năng chịu ăn mòn. Ngoài ra, model Optima 8300 còn có một lựa chọn khác là hệ thống dẫn mẫu với đầu phun sương điện tử eNeb, giúp tăng giới hạn phát hiện gấp 2 ~ 4 lần.

– Bơm nhu động: 3 kênh, điều khiển bằng máy tính, có thể thay đổi tốc độ trong khoảng 0,2 ~ 5 mL/phút với bước tăng 0,1 mL/phút, sử dụng ống dẫn có đường kính 0,76 mm. Phần mềm trang bị tính năng FastPump và SmartRinse, giúp giảm thời gian phân tích.

Cung Cấp Bao Gồm

– Máy quang phổ phát xạ ICP-OES

– Hệ thống phụ trợ và phụ kiện đi kèm

– Hướng dẫn sử dụng, hỗ trợ ứng dụng và các giấy tờ liên quan